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par auteur:
Renou , Gilles
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Auteur :
Renou , Gilles
Titre :
Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence , Gilles Renou
Notes :
Référence de l'article : nm610
Volume : base documentaire : TIP155WEB
Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Nanosciences et nanotechnologies
Date de publication : 2006/04/10
Cet article traite du dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence, réservé il y a encore quelques temps aux domaines spatial et aéronautique. Désormais, ce procédé se propage à d'autres secteurs d'activités tels que la décoration ou le biomédical. L'article s'attache tout d'abord aux décharges basse température, basse pression : décharges diode continue et décharges radiofréquence (décharges excitées par des champs électriques haute fréquence). Les paramètres de dépôt sont ensuite passés en revue : les mécanismes de pulvérisation, la puissance, la pression et la distance cible-substrat.
URL:
https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovation-th10/nanomateriaux-synthese-et-elaboration-42195210/depot-de-films-nanometriques-en-pulverisation-cathodique-radiofrequence-nm610/
https://doi.org/10.51257/a-v1-nm610
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