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par auteur:
Muñoz-Rojas , David
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Auteur :
Muñoz-Rojas , David
Titre :
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD) , David Muñoz-Rojas
Notes :
Référence de l'article : re262
Volume : base documentaire : TIP958WEB
Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Innovations technologiques
Date de publication : 2016/11/10
L'ALD Spatial (SALD) est une variation de l'ALD où les précurseurs sont injectés en des endroits différents, et séparés par une région inerte. La croissance du film est réalisée par exposition du substrat à des emplacements contenant des précurseurs différents. Dans cet article, les principes fondamentaux de la SALD et son développement historique sont présentés. Ensuite, une description succincte des différents réacteurs développés à ce jour est fournie, suivie par la description des aspects de dynamique des fluides et les défis techniques particuliers associés à la SALD. Enfin, certaines des applications de la SALD sont décrites.
URL:
https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovation-th10/innovations-en-materiaux-avances-42186210/depot-par-couche-atomique-spatiale-sald-re262/
https://doi.org/10.51257/a-v1-re262
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