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par auteur:
Gros-Jean , Mickael
Mantoux , Arnaud
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Auteur :
Gros-Jean , Mickael
Mantoux , Arnaud
Titre :
ALD en microélectronique : applications, équipements et productivité , Mickael Gros-Jean, Arnaud Mantoux
Notes :
Référence de l'article : re255
Volume : base documentaire : TIP350WEB
Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Électronique
Date de publication : 2016/11/10
Cet article est une revue de l'utilisation du dépôt par couches atomiques dans le secteur de la microélectronique, en termes d'élaboration de couches minces et de réalisation de composants. Les applications, la chimie des précurseurs, les mécanismes de croissance ainsi que les différents type de réacteurs (avec ou sans assistance plasma) sont décrits
URL:
https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/electronique-photonique-th13/microelectronique-dispositifs-technologies-et-circuits-42286210/ald-en-microelectronique-re255/
https://doi.org/10.51257/a-v1-re255
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