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Auteur :  Schneider , Nathanaelle Donsanti , Frédérique Titre :  Atomic Layer Deposition (ALD) Principes généraux, matériaux et applications , Nathanaelle Schneider, Frédérique Donsanti Notes :  Référence de l'article : re253 Volume : base documentaire : TIP958WEB Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Innovations technologiques Date de publication : 2016/10/10 Cet article détaille le principe de la méthode de dépôt chimique par flux alternés appelée Atomic Layer Deposition (ALD). À l'issue d'un inventaire des différents matériaux pouvant être déposés par cette technique, il est suivi d'un bref résumé de ses applications principales et émergentes. URL:  https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovation-th10/innovations-en-materiaux-avances-42186210/atomic-layer-deposition-ald-re253/ https://doi.org/10.51257/a-v1-re253   Exemplaires Pas de données exemplaires

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