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par auteur:
Michiels , Matthieu
Konstantinidis , Stephanos
Deckers , Dominique
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Auteur :
Michiels , Matthieu
Konstantinidis , Stephanos
Deckers , Dominique
Titre :
Pulvérisation magnétron à impulsions bipolaires de haute puissance , Matthieu Michiels, Stephanos Konstantinidis, Dominique Deckers
Notes :
Référence de l'article : in251
Volume : base documentaire : TIP553WEB
Date de publication : 10/09/2023
Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Traitements des métaux
La technologie HiPIMS bipolaire (bipolar High-Power Impulse Magnetron Sputtering) a récemment suscité un grand intérêt car elle permet de contrôler l'énergie des ions intervenant dans la formation de films minces fonctionnels. Cet article propose, premièrement, d'aborder les topologies de circuits électroniques communément utilisées dans un tel procédé ainsi que la problématique de la gestion des arcs électriques. Ensuite, l'effet du champ électromagnétique de la cathode sur les propriétés du plasma est étudié. Finalement, deux cas particuliers d'application sont abordés : la croissance de films de titane métallique sur substrats conducteurs et de dioxyde de titane sur substrats isolants.
URL:
https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/materiaux-th11/traitements-de-surface-des-metaux-par-voie-seche-et-en-milieu-fondu-42360210/pulverisation-magnetron-a-impulsions-bipolaires-de-haute-puissance-in251/
https://doi.org/10.51257/a-v1-in251
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