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par auteur:
Cassir , Michel
Dallel , Dorra
Melendez-Ceballos , Arturo
Chavanne , Marie-Hélène
Ringuede , Armelle
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Auteur :
Cassir , Michel
Dallel , Dorra
Melendez-Ceballos , Arturo
Chavanne , Marie-Hélène
Ringuede , Armelle
Titre :
ALD pour les piles à combustible à haute température , Michel Cassir, Dorra Dallel, Arturo Melendez-Ceballos,... [et al.]
Notes :
Référence de l'article : re256
Volume : base documentaire : TIP958WEB
Publié dans : Techniques de l'ingénieur. Innovations technologiques
Date de publication : 2016/10/10
La nanostructuration par couches minces de différentes zones interfaciales des piles à combustible à haute température, notamment celles à oxyde solide (SOFC), est primordiale pour améliorer les performances et la durée de vie de ces dispositifs de génération d'énergie. Le dépôt par couches atomiques (ALD) est une technique de choix pour la mise en œuvre de films minces de très grande qualité, homogènes, denses et conformes. Cet article montre les avancées et le potentiel de l'ALD essentiellement pour les systèmes SOFC, mais aussi pour les piles à combustibles à carbonates fondus (MCFC) et à oxyde solide conducteur de protons (PCFC).
URL:
https://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovation-th10/innovations-en-energie-et-environnement-42503210/ald-pour-les-piles-a-combustible-a-haute-temperature-re256/
https://doi.org/10.51257/a-v1-re256
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